研发能力
聚焦纳米科技,推动产业创新发展
反应离子刻蚀机
6/8英寸兼容,支持F基气体,同时支持4路气体,RF400W,均匀性±5%;SiO2、SiNx薄膜刻蚀;单片loadlock自动传送