研发能力
聚焦纳米科技,推动产业创新发展
电感耦合等离子体刻蚀机#2(硅材料刻蚀)
全自动,4/6/8英寸兼容,支持F基刻蚀气体,支持6路气体,RF300W,ICP1000W,均匀性±5%;高深宽比(大于50:1)刻蚀;Bosch工艺。